EBIC/EBAC
EBIC(Electron Beam Induced Current)电子束诱发电流分析技术 是 SEM 失效分析(SEM Failure Analysis)中重要的电性定位方法之一。此技术利用电子束与半导体材料交互作用产生的电子电洞对(electron–hole pairs),透过外部探针形成电流回路,藉由电流影像即可判读接面轮廓、缺陷位置与漏电区域,进而找出组件失效的根本原因。
EBAC(Electron Beam Absorbed Current)电子束吸收电流技术 是扫描式电子显微镜(SEM)故障分析中重要的电性定位工具之一,特别适用于分析金属互连结构中的导通问题。透过电子束扫描与电流量测,EBAC 能快速找出电路中导通中断的位置,使工程师能有效定位开路或高阻抗缺陷,并进一步进行后续物理分析。
技术可用来找出接面的缺陷、观察p-n接面的轮廓和计算出扩散长度(diffusion length)。
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电子束撞击试片时会产生电子电洞对,电子电洞对受到空乏区内建电场的分离,再经由点针所构成的回路形成电流,由电流影像可判断缺陷位置与接面轮廓。
可快速且有效地定位出线路上开路(open)或桥接(short)的位置。
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电子束穿过护层或IMD,在metal层累积电荷,metal 层可深达3到4层,累积的电荷因点针构成的回路而形成电流,由电流影像便可判断开路与短路的位置。
Q1. 闸极氧化层崩溃 (gate oxide breakdown) 该如何找出失效真因?
利用EBIC(electron beam induced current)技术,就可以轻易找到闸极氧化层崩溃的位置喔。
由于电子束撞击样品时产生电子电洞对,再经由点针构成的回路形成电流,就可以由电流影像来判断缺陷的位置。




