分析应用
- 薄膜厚度量测
- 多层膜厚量测
- 可量测介电层、氧化层、金属膜等，有机、无机膜厚均可量测
- 最小量测尺寸 10um
- 厚度范围：20nm~20um
机台种类
图-1 Filmetrics F40
应用实例
图-2 单层薄膜厚度量测 (SiO2：316.38nm)
图-3 多层薄膜厚度量测 (Si：614.2nm / W：54.63nm / Si3N4：122.4nm)
常见问题
Q1. 光学膜厚量测仪样品分析尺寸大小限制 ?
A. 样品载台最大可以放置8英寸晶圆不须裂片即可分析，最小可量测约0.5cm左右的样品。
Q2. 光学膜厚量测仪准确性高吗 ?
A. 光学膜厚量测仪是利用光源反射的讯号来进行fitting比对，若Goodness of fit数值越接近1时，量测厚度越接近实际厚度；若可提供愈小的厚度范围，则fitting准确率愈高。
Q3. 光学膜厚量测仪可以量测多层膜吗 ?
A. 可以，只要您提供样品各层薄膜的结构与概略厚度，搭配资料库就可以为您进行分析。
Q4. 光学膜厚量测仪是破坏性分析吗 ?
A. 光学膜厚量测仪属于光学非接触式量测，并不会破坏样品表面的结构。
Q5. 光学膜厚量测仪可侦测厚度的极限为何 ?
A. 最薄可以量测到20nm，若小于此厚度建议可搭配XRR或TEM来进行分析。
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