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合作专栏
04.28
2024

先进晶体管技术与发展趋势

随着传统半导体尺寸的微缩,晶体管的栅极长度(gate length)也逐渐缩小。为了评估半导体芯片制作技术,传统上常使用晶体管的栅极线宽作为指标,因为栅极线宽越小,代表晶体管越小,相同尺寸的芯片就能容纳更多的晶体管,进而意味着功能越多、效能越好。

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先进晶体管技术与发展趋势
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02.05
2024

以离子注入研制成长于蓝宝石基板之N型β-Ga2O3 多晶膜及其器件特性之研究

近几年电动车与再生能源的快速发展,市场对功率器件的需求与性能要求不断增加,而Si的能隙(Bandgap, Eg)只有1.12 eV,无法承受大电压,目前在高电压、大功率的功率器件以逐渐采用第三代宽能带半导体碳化硅(SiC)与氮化镓(GaN)所制作之器件,此些材料所制作之器件在功率器件的电压与功率可大幅提升,进而可改善在电动车与再生能源能源应用时之转换效率。

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以离子注入研制成长于蓝宝石基板之N型β-Ga2O3 多晶膜及其器件特性之研究
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11.22
2023

到平面的世界探险吧---二维材料简介

二维材料系统有许多优异特性已被报导,集感测、存储和处理于一体的 2D 半导体硬件系统未来将颠覆电子应用的架构。现阶段来说,要发展集成电路量产,乃至商业化应用,仍有许多研究工作待完成。

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到平面的世界探险吧---二维材料简介
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