3D X-ray 技术主要透过以下流程取得三维影像:
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样品旋转扫描:X-ray 光源照射样品,同时样品进行 360° 旋转。
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多角度影像取得:在不同角度下取得大量 X-ray 投影影像(Projection Images)。
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电脑重建演算:透过 CT 重建演算法将影像堆叠,生成三维体积影像(3D Volume)。
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三维结构分析:可进行任意方向的切片分析(Virtual Cross Section),并观察样品内部结构与缺陷。
透过此技术,可清楚辨识封装内部结构,例如:焊点空洞(Void)、导线断裂、打线变形、TSV 结构缺陷、PCB 内部裂缝等。

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微电子与半导体
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IC 封装内部结构检测
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BGA / Flip-chip 焊点缺陷分析
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TSV 结构缺陷检测
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MEMS 元件内部结构观察
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电子与电路板
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PCB 内部导线结构分析
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焊点空洞比例检测
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焊接不良与裂缝检测
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材料科学
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材料内部结构分析
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孔洞与裂缝分佈观察
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生命科学
生物样品三维结构观察
在电子元件与半导体封装检测中,2D X-ray 与 3D X-ray皆属于常见的非破坏性检测技术,两者皆利用 X-ray 穿透材料后的影像对比来观察内部结构,但在影像呈现方式与分析能力上仍有明显差异。
2D X-ray 主要透过单一方向的 X-ray 穿透样品形成平面影像,因此影像中会包含沿着射线路径的所有结构资讯。此方式适合用于快速检查焊点、打线与封装结构,例如 BGA 焊球空洞、Wire bond 打线形貌等。
相较之下,3D X-ray技术透过旋转样品取得多角度的 X-ray 影像,再利用电脑演算重建三维结构。此方式可清楚呈现样品内部结构与缺陷位置,并提供完整的立体资讯。因此,在实务分析流程中,通常会先利用 2D X-ray 进行快速筛检,再透过 3D X-ray 进行深入结构分析与缺陷定位。
| 比较项目 | 2D X-ray | 3D X-ray |
|---|---|---|
| 影像形式 | 二维投影影像 | 三维立体结构 |
| 扫描方式 | 单一角度穿透 | 多角度旋转扫描 |
| 影像资讯 | 多层结构可能重叠 | 可分层观察内部结构 |
| 分析能力 | 适合快速检测 | 适合精确缺陷定位 |
| 常见应用 | PCB 焊点、打线观察 | TSV、MEMS、3D IC、封装缺陷 |
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图|高解析 3D X-ray 设备
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图|3D X-ray 光源与侦测系统配置,可透过旋转样品取得多角度影像。
闳康科技在半导体材料分析与失效分析领域累积多年经验,建立完整的封装结构检测平台,透过高解析度 3D X-ray 系统与跨技术整合能力,可为客户提供更精确的缺陷定位与结构分析。
- 高解析三维结构分析:可取得纳米至微米尺度的三维影像,清楚呈现封装内部结构、焊点形貌与材料界面。
- 非破坏性缺陷定位:在不破坏样品的情况下,即可观察封装内部缺陷,如焊点空洞、TSV 缺陷、裂缝或导线断裂。
- 跨技术整合分析能力:可与多种失效分析技术整合,透过多技术整合,可形成完整的分析流程:非破坏检测 → 缺陷定位 → 截面验证 → 根因分析
- 支持多种先进封装技术:2.5D / 3D IC、TSV 结构、MEMS 元件、Flip-chip / BGA 封装、高密度 PCB等。
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图|IC封装与系统模组分析
(a) MEMS IC 三维结构影像;(b) SMT 系统电路板逆向工程
3D X-ray 可完整重建电子模组内部结构,协助工程师分析封装与电路布局。
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图|封装打线结构分析-铜线(Cu Wire)打线结构
透过 3D X-ray 可清楚观察封装内部铜线打线的形貌与排列,可观察打线高度、形貌与可能的 lifting 或断裂问题。
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图|封装打线结构分析-铝线打线(Al Wire Bonding)
铝线打线于 X-ray 影像中的结构与连接状况。
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图|机构元件与封装缺陷
(a) 微型马达结构;(b) Wire lifting 缺陷
可分析机构与电子元件内部缺陷。
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图|PCB 与 TSV 结构分析
(a) PCB substrate;(b) TSV void 缺陷
3D X-ray 可清楚观察 TSV 结构中的空洞或填充缺陷。
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图|PCB 电路布局 3D X-ray 影像
PCB 内部导线与电路布局的影像。
