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技术原理

原子力显微镜(Atomic Force Microscope, AFM)是一种高解析度的扫描探针显微镜技术,可用于量测材料表面的纳米尺度形貌与结构特征。AFM透过纳米尺寸的探针扫描样品表面,利用探针与样品之间的原子间作用力,使探针悬臂产生微小偏移。雷射光照射于悬臂背面并反射至光检测器,侦测反射光的偏移量即可转换为样品表面的高度资讯,进而建立高解析度的表面形貌影像,因此广泛应用于半导体材料与纳米材料研究。

 

早期AFM多採用**接触式扫描(Contact Mode)进行量测,而目前常用的轻敲模式(Tapping Mode)可有效降低探针与样品接触造成的刮伤与污染影响,提升量测稳定性。此外,AFM亦可搭配不同模组进行多种物性量测,例如:电性分析、磁性分析、参杂分布分析(SCM模组)

 

 

AFM 量测原理示意图

AFM利用纳米尺度的探针(Tip)扫描样品表面,当探针与样品之间产生原子间作用力(如凡得瓦力)时,会使探针悬臂(Cantilever)产生微小位移。

雷射光照射于悬臂背面并反射至光检测器,当悬臂因表面作用力而偏移时,反射光的位置也会改变。透过侦测雷射偏移量并转换为讯号,即可重建样品的表面形貌与纳米尺度结构。

 
分析应用
半导体材料分析
最大样品尺寸可支持 12 英寸晶圆(12” wafer) 的量测与分析。
薄膜与结构缺陷分析
可扫描观察薄膜镀层、微结构与表面缺陷。
三维表面影像分析
建立材料表面的3D形貌影像。
微区尺寸与高度量测
量测微小结构的尺寸与高度差异。
表面粗糙度分析
分析材料表面的纳米级粗糙度(Roughness)。
表面形貌量测
可量测 100 μm 以下范围的高解析表面形貌。
机台种类

AFM ( Bruker ICON )

可进行纳米尺度的高解析表面形貌与物性分析。Dimension Icon 为研究级 AFM 平台,具备高稳定扫描系统与多种量测模式,可提供精确的纳米级结构与表面特性资讯。该系统可进行 纳米尺度三维表面形貌量测,并可搭配多种功能模组进行电性、机械性与材料特性分析,广泛应用于半导体、纳米材料与先进封装研究。

 

系统特色

  • 纳米级表面形貌量测能力

  • 高稳定度扫描平台与低噪讯设计

  • 支援多种量测模式(Contact / Tapping / PeakForce 等)

  • 可搭配多种功能模组进行物性量测

  • 适用于半导体与纳米材料分析

应用实例
  • (a) 表面粗糙度分析

  • (b)3D影像

  • 剖面分析 (Section analysis)

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