OP 白光干涉仪

白光干涉仪主要利用白光干涉（White Light Interferometry）原理进行表面量测。当白光照射至样品表面时，部分光线会由样品表面反射，另一部分则由参考镜面反射，两束光线重新叠加后会形成干涉条纹，透过扫描样品高度并分析干涉讯号变化，系统可计算每个位置的高度资讯，进而重建完整的三维表面形貌，量测模式包括：

• 垂直扫描干涉（Vertical Scanning Interferometry, VSI）：适用于表面起伏较大的样品，可量测微米至数十微米的高度差，常用于封装结构或微机电元件分析。
• 相位移干涉（Phase Shifting Interferometry, PSI）：适用于表面较为平坦的样品，可提供纳米等级高度解析度，常用于表面粗糙度与薄膜量测。

白光干涉仪可提供三维表面形貌、表面粗糙度、阶高量测、波浪度分析。