是一种利用光学反射光谱分析(Optical Reflectance Spectroscopy)进行薄膜厚度量测的非接触式分析技术,系统利用垂直入射的光源照射样品表面,当光线进入薄膜结构时,会在不同界面之间产生反射与干涉现象,仪器透过侦测反射光的光谱变化,并与光学模型进行计算比对,即可快速得到薄膜的厚度与光学参数,此技术具有非破坏、无需样品前处理、量测速度快等优点。

光学膜厚量测原理
当光源垂直入射至样品表面的薄膜时,光线会在薄膜与基板界面之间产生反射与透射现象。部分光线会在薄膜表面被反射形成反射光,另一部分光线则穿透薄膜形成透射光。
由于薄膜具有一定厚度,光线在不同界面之间会产生多次反射并形成光学干涉,不同厚度的薄膜会造成反射光强度与光谱分布产生特定变化,仪器透过侦测反射光的光谱强度(%R),并结合光学模型计算,即可推算出薄膜的薄膜厚度、多层薄膜结构资讯。

Filmetrics F40
可快速量测透明或半透明薄膜的厚度与光学参数。此系统结合显微镜光学系统与光谱反射技术,透过分析薄膜反射光谱即可计算薄膜厚度与光学常数,Filmetrics F40 在量测时,光源照射于薄膜表面,光线在薄膜不同界面之间产生反射与干涉,仪器透过分析反射光在不同波长下的变化,即可快速计算出薄膜厚度,系统可与显微镜整合,使量测光点缩小至微米尺度,适合分析微结构区域或图案化样品上的薄膜厚度。
系统特色
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非接触、非破坏式薄膜量测
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显微镜整合,可精准定位量测区域
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微米级量测光点(光斑大小-10X镜头下为120um)
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几秒内即可完成膜厚量测
| 项目 | 规格 |
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| 薄膜厚度范围 | 约 20 nm – 20 µm |
| 最小量测光点 | 光斑大小-10X镜头下为120um |
| 量测方式 | 光谱反射(Spectral Reflectance) |
| 可量测材料 | 透明 / 半透明薄膜 |
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单层薄膜厚度量测 (SiO2:316.38nm)
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多层薄膜厚度量测 (Si:614.2nm / W:54.63nm / Si3N4:122.4nm)