XPS X光光电子能谱仪
X光光电子能谱仪(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS)是一种高灵敏度的表面分析技术,可用于量测材料表面的元素组成与化学键结状态,当材料表面受到 X 光照射时,会产生光电效应,使材料内层轨域的电子被激发并释放为光电子,这些光电子经由能量分析器量测后,可得到其束缚能能谱。由于不同元素及不同电子轨域具有特定的束缚能,因此可透过能谱判断:元素种类、元素比例、化学键结状态。
此外,当元素与不同元素形成化学键结时,其电子束缚能会产生化学位移,例如金属氧化程度越高,其束缚能通常会越高,因此可利用此特性分析材料的化学状态与氧化态,XPS主要量测材料表面约 1–10 nm 深度范围的元素与化学资讯,因此非常适合用于表面化学分析与薄膜材料研究。
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XPS/ESCA (Thermo K-alpha, K-alpha+)
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XPS/ESCA (ESCALAB Xi+)
- 微区分析之平面解析度可至 5um
- 光电子影像提供精确定位分析
- 分子离子枪可减少离子蚀刻所导致的样品损伤
- 全能谱平面分布分析有助未知物鉴定
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(a) Parallel Image
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(b) Spectrum for Interested Area
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(c) Cluster-cleaned Prevent Ta Reduction
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(d) Depth profile by using MAGCIS
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(a) Adhesion failure issue
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(b) Identification of photo resist residue
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(c) Surface contamination
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(d) Depth profiling
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(e) Work function
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